应用非主导排序遗传算法 (NSGA-III) 和辐射基函数 (RBF) 插值,以减轻智能隐形眼镜中的节点位移
Hanjui Chang1,2, Yue Sun3,4, Shuzhou Lu3,4
1Department of Mechanical Engineering, College of Engineering, Shantou University, Shantou, 515063, China. changhj@stu.edu.cn.
Scientific reports
|November 26, 2024
概括
使用模具内电子装饰 (IME) 技术制造智能隐形眼镜 (SCL) 需要优化注射参数. 这项研究优化了融温度和保持压力,在节点位移和残余应力方面实现了超过95%的改善,从而提高了SCL性能.
科学领域:
- 对于可穿戴技术的先进制造工艺.
- 智能设备的材料科学和工程.
- 人与计算机的互动和增强现实.
背景情况:
- 智能隐形眼镜 (SCL) 代表着可穿戴技术和人机交互的重大进步.
- 实现SCL的潜力需要复杂的制造技术超越先进的电子.
- 模具内电子装饰 (IME) 技术为SCL生产提供了一个有前途的解决方案.
研究的目的:
- 用IME技术研究SCL的制造工艺.
- 为了优化关键的注射参数,包括融温度,保持压力和保持时间.
- 为了提高SCL的性能,生物相容性,透明度,稳定性和舒适性.
主要方法:
- 详细描述SCL背景和技术要求.
- 讨论IME技术在SCL制造中的作用和应用.
- 系统分析化温度,保持压力和保持时间对SCL的影响.
- 使用NSGA-III算法,多目标优化化温度和保持压力.
- 射线基函数插值的应用用于精细的优化.
主要成果:
- 优化化温度和保持压力显著改善了SCL特性.
- 在节点位移方面实现了95.60%的优化率.
- 实现了93.47%的剩余压力优化率.
- 提高了SCL的透明度,稳定性和舒适性.
结论:
- IME技术对于先进的SCL制造至关重要.
- 通过多目标优化优化注射参数的优化导致优越的SCL.
- 开发的过程显著改善了SCL节点移位和残余应力,为实际应用铺平了道路.
