抛光工具的正常位移模型和补偿方法用于精密CNC抛光无球面的抛光

Yongjie Shi1, Min Su2, Qianqian Cao3

  • 1School of Intelligent Manufacturing, Jiaxing Vocational Technical College, Jiaxing 314036, China.

Micromachines
|November 27, 2024
PubMed
概括

本研究介绍了计算机数控 (CNC) 抛光系统的正常位移补偿方法. 该方法通过减少粗性和不均性,显著提高了aspheric表面质量.