Sung Kyu Jang1, Woosung Lee1, Ga In Choi1

  • 1Electronic Convergence Material and Device Research Center, Korea Electronics Technology Institute (KETI), Seongnam 13509, Republic of Korea.

PubMed
概括

先进的半导体制造使用无形碳层 (ACL) 面膜,但碳污染需要等离子体清洗. 这项研究揭示了在高温等离子体条件下COF3的形成,为优化ACL过程提供了见解.