和乙的远紫外线直接光解:一个实验和机制研究研究
Chen-Yan Hu1,2, Li-Li Hu1, Tian-Yang Zhang3
1College of Environmental and Chemical Engineering, Shanghai Engineering Research Center of Energy, Saving in Heat Exchange Systems, Shanghai University of Electric Power, Shanghai, People's Republic of China.
远紫外线 (222纳米) 辐射有效降解水中的IOX和ACE,实现100%的去除. 这种先进的氧化过程比传统的紫外线 (254纳米) 水处理更有效和更具成本效益.
科学领域:
- 环境科学 环境科学
- 水处理技术水处理技术
- 摄影化学的使用.
背景情况:
- 像IOX和ACE这样的新兴污染物对传统的水处理提出了挑战.
- 远紫外线 (222纳米) 化克里普顿 (KrCl*) 脱灯为净化水提供了一种新的方法.
- 了解降解动力学和影响因素对于有效应用至关重要.
研究的目的:
- 为了比较UV222和UV254辐射对降解IOX和ACE的疗效.
- 为了确定活性物种,并研究水矩阵参数对光解的影响.
- 评估UV222处理的能源效率和经济可行性.
主要方法:
- 使用UV222和UV254辐射进行比较光解实验.
- 通过探头实验和EPR光谱学识别活性氧物种.
- 研究包括pH值,污染物度,离子和自然有机物 (NOM) 在内的因素.
- 每个订单的电能 (EE/O) 计算用于成本效益评估.
主要成果:
- 与UV254.4相比,UV222显著提高了IOX和ACE的去除率,达到100%,UV222显著提高了IOX和ACE的去除率,达到100%.
- 在UV222照射下,基基 (HO•) 被确定为关键活性物种.
- 光解显示IOX对pH的依赖程度很小,对IOX的水矩阵组件的敏感性很低.
- 与UV254相比,UV222显示出更高的能源效率和经济效益.
结论:
- 远紫外线 (222纳米) 照射是一种高效且具有成本效益的技术,用于降解水中的IOX和ACE.
- 该过程对常见的水矩阵变化具有强大耐用性.
- 这项研究为在实际水处理场景中实施先进的氧化过程提供了宝贵的见解.
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