用于深度冷的角度选择性热发射器,用于白天辐射冷却
Sandeep Kumar Chamoli1,2, Wei Li1,2, Chunlei Guo3
1GPL Photonics Lab, State Key Laboratory of Applied Optics, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun 130033, China.
Nanophotonics (Berlin, Germany)
|December 5, 2024
概括
角选择性增强了辐射冷却性能,在与光谱选择性相结合时,可以实现深度冷温度. 这项研究引入了一种薄膜发射器,用于实用,高效的辐射冷却设备.
科学领域:
- 物理 物理学 物理
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术 纳米技术
背景情况:
- 辐射冷却提供了一种被动的热管理方法.
- 达到深温度需要优化热发射器性能.
- 角选择性是影响辐射冷却效率的关键参数.
研究的目的:
- 从理论上分析角选择性对辐射冷却的影响.
- 为了研究光谱选择性,环境条件和寄生虫加热的联合效应.
- 引入一种新的方案来实现角度和光谱选择性的热发射器.
主要方法:
- 辐射冷却性能的理论分析.
- 针对角和光谱选择性的薄膜堆设计的研究.
- 模拟各种环境条件下的性能和寄生式加热.
主要成果:
- 结合角和光谱选择性对于深度结温度至关重要.
- 角选择性发射器可以在潮湿的环境中改善冷却,但需要非辐射传热管理.
- 提出了一种薄膜发射器 (∼16μm),在现实条件下实现 ΔT = -46 °C.
结论:
- 角选择性热发射器为辐射冷却提供了显著的优势.
- 拟议的薄膜设计比以前的设备薄一倍.
- 需要进一步的研究来管理非辐射热传递的实际应用.


