可调整的氧化的光学非线性,用于在epsilon-near-zero区域的光学切换
Kuen Yao Lau1, Yuting Yang2, Di Zhao3
1College of Optical Science and Engineering and State Key Lab of Modern Optical Instrumentation, Zhejiang University, 310027, Hangzhou, China.
Nanophotonics (Berlin, Germany)
|December 5, 2024
概括
磁铁喷射的氧化 (ITO) 薄膜在epsilon-near-zero (ENZ) 区域显示可调节的光学特性. 这些工程 ITO 片使 Q 切换脉冲激光产生,突出其非线性光学设备的潜力.
科学领域:
- 光学和光子学 在光学和光子学.
- 材料科学 材料科学 材料科学
背景情况:
- 接近零的埃普西隆 (ENZ) 材料具有独特的光学特性.
- 氧化 (ITO) 是光学应用的一个有前途的材料.
研究的目的:
- 为了设计磁铁喷射的ITO薄膜的光学特性和ENZ波长.
- 为了研究ITO薄膜的非线性光学行为.
- 为了展示ITO膜在Q开关脉冲激光生成中的应用.
主要方法:
- 磁铁子喷用于ITO薄膜沉积.
- Z-扫描技术用于测量非线性光学特性.
- 关于ENZ波长和非线性吸收的特征.
主要成果:
- 通过控制沉积条件,可调节吸收光学非线性 (和到逆和吸收).
- ENZ波长在1553nm左右推断出来.
- 在1050nm和1550nm获得的高第三阶非线性吸收系数和非线性灵敏度.
- 通过使用ITO薄膜成功展示了Q开关脉冲激光的产生.
结论:
- 磁铁子喷射的ITO薄膜提供可调节的光学特性和ENZ波长.
- ITO薄膜具有显著的非线性光学效果,适合激光应用.
- 工程 ITO 薄膜对于非线性光学设备和激光技术具有巨大的潜力.


