尼奥酸盐的无重置感应合等离子蚀刻用于集成光子学
Fabian Kaufmann1, Giovanni Finco1, Andreas Maeder1
1ETH Zurich, Department of Physics, Institute for Quantum Electronics, Optical Nanomaterial Group, Zurich, Switzerland.
Nanophotonics (Berlin, Germany)
|December 5, 2024
概括
研究人员优化了酸波导的蚀刻,通过克服材料重新配置的挑战,实现了高光学质量. 这使得先进的光子集成设备的可靠制造成为可能.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光子学是指光子学的使用方法.
- 纳米制造的纳米制造
背景情况:
- 绝缘体上的酸 (LNOI) 是下一代光子集成电路的关键平台.
- 在LNOI制造方面取得了重大进展,实现了低光学损失.
- 阿贡蚀刻为LNOI波导提供了卓越的光学质量,但面临着材料重新配置和低蚀刻面罩选择性等挑战.
研究的目的:
- 开发一个系统的工作流程,以优化LNOI波导的蚀参数.
- 识别在蚀刻过程中最小化或消除材料重置的条件.
- 为了实现高质量的LNOI波导,而不依赖于湿化学后蚀刻.
主要方法:
- 研究了蚀参数,以确定最佳加工条件.
- 开发了一种方法,以达到无重置蚀刻制度.
- 提出并测试了三种不同的无再沉积蚀刻技术.
主要成果:
- 建立了一个工作流程,以确定最佳蚀刻参数,独立于特定的等离子系统.
- 该研究成功地确定了实现无再沉积蚀刻过程的条件.
- 三种方法被证明可以生产高质量的LNOI波导,具有良好的侧壁,没有重新放置,没有湿清洗.
结论:
- 优化的蚀对于高质量的LNOI光子设备至关重要.
- 开发的工作流和无重置方法简化了LNOI波导制造.
- 这一进步促进了基于LNOI的先进光子集成电路的商业规模生产.
