使用二进制光刻和再流 (BLR) 扩大多光谱色过器的规模
Md Abdur Rahman1, Soroosh Daqiqeh Rezaei1, Deepshikha Arora1
1Engineering Product Development Pillar, Singapore University of Technology and Design, 8 Somapah Road, Singapore 487372, Singapore.
Nanophotonics (Berlin, Germany)
|December 5, 2024
概括
一个新的二进制光刻和回流 (BLR) 工艺使多个微观传输波器的成本效益高的制造成为可能. 这种方法可以为小型光谱仪和多光谱成像应用实现精确的厚度变化.
科学领域:
- 光学和光子学 在光学和光子学.
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 微型制造业的微型制造
背景情况:
- 微型光谱仪和多光谱成像需要越来越多的光学波器.
- 序列过器制造工艺对于大规模生产往往是成本低效的.
研究的目的:
- 引入一种新的,具有成本效益的方法,用于制造多个不同的微观传输波器.
- 为了证明精确控制介电层厚度,使用修改后的 lithography 技术.
主要方法:
- 采用标准的二进制光刻法,其次是开发后的回流过程,以创建聚合物电阻的高度变化.
- 达到0.6微米的最小特征大小.
- 结果的透明聚合物薄膜被嵌入到Fabry-Perot腔中,厚度在90~230nm之间.
主要成果:
- 从单个光刻步骤成功生产了至少16个不同的过器.
- 证明了对介电层厚度的控制,直至大约15 nm.
- 在可见光谱中启用了传导能力.
结论:
- 二元光刻和回流 (BLR) 工艺为制造微观传输过器提供了具有成本效益的替代方案.
- 这种技术适用于需要在基板上精确厚度变化的应用.
- 该BLR工艺支持开发先进的光学设备,如微型光谱仪.


