广角深紫外抗反射多层通过离散到连续优化

科学领域:

• 光学和光学工程的光学和光学工程.
• 材料科学 是一种材料科学.
• 计算物理学的计算物理.

背景情况:

• 设计复杂的光子结构往往需要先进的优化技术.
• 具有多个局部最佳值的非凸目标函数对传统算法构成挑战.
• 有效的训练数据集对于指导在连续参数空间中的优化过程至关重要.

研究的目的:

• 开发和验证用于设计光子结构的新型离散至连续优化算法.
• 应用该算法来创建具有高性能的深紫外线 (DUV) 反射涂层.
• 为了证明算法的实用性,制造和模拟光学多层.

主要方法:

• 一种离散到连续优化方法,将二进制编码与连续改进相结合.
• 将多层结构编码为二进制向量,其中每个位代表特定的材料层厚度.
• 使用因数分解机来从基于二进制的训练数据中制定替代函数,以进行初始优化.
• 采用连续优化方法,如内部点方法,以改进优点的数字.

主要成果:

• 成功设计和制造用于DUV应用的化物 (MgF) /化物 (LaF) 多层.
• 一个优化的MgF₂/LaF₃多层 (十位,~100 nm总厚度) 在193 nm时实现了0.2%的平均反射率.
• 实验结果与优化设计密切匹配,验证了算法的有效性.
• 模拟预测了为透镜涂上优化的多层透镜的99.7%的透射率.

结论:

• 开发的离散到连续优化算法有效设计高性能光子结构.
• 该方法特别适用于多层光学涂层,并且可以扩展到其他二进制可表示的光子设备,如微波元表面.
• 这种方法为在各种纳米光子应用中实现非传统光学性能提供了一条途径.