电极阵列设计,标尺脱位和插入技术对IC手术术后的影响 - - 一项前性研究
Manuel Christoph Ketterer1,2, A K Rauch3, R L Beck3
1Department of Otorhinolaryngology, Medical Center, Faculty of Medicine, University of Freiburg, Freiburg, Germany. manuel.christoph.ketterer@uniklinik-freiburg.de.
概括
优化的耳植入物 (CI) 电极设计和外科手术技术显著减少了手术后的头和电极脱位. 需要进一步的研究来证实关于耳口术和的发现.
科学领域:
- 耳鼻喉科 耳鼻喉科 耳鼻喉科
- 神经外科 神经外科
- 听力学 听力学是指听力学.
背景情况:
- 手术后是耳植入器 (CI) 手术后的潜在并发症.
- 了解影响的因素对于改善患者的治疗结果至关重要.
研究的目的:
- 研究电极阵列设计,插入参数和外科手术技术对CI后术后的影响.
- 为了将主观的头评估与客观的前庭功能测试相关联.
主要方法:
- 使用头障碍清单 (DHI) 对主观头的前性评估.
- 客观的前庭评估通过视频阴影影像,视频头部脉冲测试和前庭唤起的肌性潜能.
- 临床数据与术后数字体积断层扫描成像的比较.
主要成果:
- 在62名患者中观察到低频率的术后 (3%).
- 无论是尾切除术还是电极阵列脱位/深度都与增加的头无关.
- 在没有主观头的患者中,在23%的患者中发现了客观前体异常.
结论:
- 改进的无创电极设计和外科手术技术已经减少了和脱位率.
- 尾管切除和脱位似乎不会在这个队列中引起头,尽管样本大小限制了最终的结论.


