高透明的导电Mg,Al和Ga联合合的ZnO多层薄膜与Cu中间层:制造,结构和特征

科学领域:

• 材料科学 材料科学 材料科学
• 固态物理 固态物理
• 薄膜技术 薄膜技术

背景情况:

• -锡氧化物 (ITO) 是标准的透明导电材料,但由于的稀缺性和脆性,需要替代品.
• 开发具有高光学透明度和电导率的无透明电极仍然是一个重大挑战.

研究的目的:

• 为了研究铜 (Cu) 层厚度对Mg,Al和Ga联合合的ZnO (MAGZO) /Cu/MAGZO多层薄膜的性能的影响.
• 为了优化结构的高性能,无透明电极.

主要方法:

• 在玻璃基板上使用磁铁喷射制造MAGZO/Cu/MAGZO多层薄膜.
• 层厚度的系统变化 (d_Cu) 从0到25nm.
• 结构性,形态性,光学性和电气性质的全面描述.

主要成果:

• 增加d_Cu减弱了ZnO (002) 并加强了Cu (111) 晶体的方向,产生均,低粗,无缺陷的表面.
• 电阻率和光传输率通常随着d_Cu.Cu的增加而下降.
• 在d_Cu = 11nm获得最佳的光电子性能,其功率为9.42 × 10^-3 Ω^-1,电阻为1.24 × 10^-4 Ω cm,可见透射率为84.2%.

结论:

• ,Al和Ga联合合的ZnO (MAGZO) /Cu/MAGZO多层结构是无透明电极的有希望的候选者.
• 用 (Mg) 染氧化层对于增强这些多层膜的整体光电子特性至关重要.