纯金薄膜的ALD和CVD沉积来自稳定的二甲基金 (III) 前体

科学领域:

• 材料科学 材料科学 材料科学
• 无机化学 无机化学 有机化学
• 纳米技术纳米技术

背景情况:

• 挥发性黄金前体对于使用化学蒸气沉积 (CVD) 和原子层沉积 (ALD) 沉积高质量的黄金薄膜至关重要.
• 现有的黄金化合物往往不稳定,需要特殊处理,并限制其实际应用.

研究的目的:

• 报告一种新型挥发性二甲基金 (III) 复合物的合成和热特性,Me2AuSSP (OiPr) 2.
• 评估其作为CVD和ALD过程的前体的潜力.
• 研究过程参数对薄膜特性的影响.

主要方法:

• 合成和表征二甲基黄金 (III) 复合物.
• 热稳定性和挥发性的评估.
• 使用CVD和ALD沉积金膜.
• 对薄膜形态,组成和电气性能进行分析.

主要成果:

• 与许多其他黄金化合物不同,Me2AuSSP(OiPr) 2复合物是稳定的,挥发性的和热稳定的.
• 优质的黄金薄膜通过CVD和ALD存储.
• 在130-170°C时,ALD的增长率在0.47至1.13 Å/周期之间.
• CVD研究探讨了和真空紫外线对薄膜特性的影响.
• 沉积的薄膜显示出多晶结构,高导电性 (3.1-55.7 μΩ cm) 和低杂质水平 (<6%).

结论:

• 合成的二甲基金 (III) 复合物是心血管疾病和ALD的有前途的前体.
• 它使高质量的黄金薄膜能够沉积,具有理想的电气性能.
• 它的稳定性和易操作性比现有的挥发性黄金前体具有优势.