[在焦点叶患者中,通过扩散皮质核素MRI评估的大脑微观结构异常]
M B Dolgushin1, R V Nadelyaev1, M Yu Martynov1,2
1Federal Center of Brain Research and Neurotechnologies, Moscow, Russia.
Zhurnal nevrologii i psikhiatrii imeni S.S. Korsakova
|December 18, 2024
概括
扩散性皮质 (DK) MRI 显示在叶 (TLE) 中广泛存在微观结构异常. 这些变化不仅发生在发作焦点,而且发生在受影响的叶片和反侧叶片中,表明神经参与范围更广.
科学领域:
- 神经成像是一种神经成像.
- 的研究研究.
- 扩散式核磁共振成像 (MRI)


