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Updated: Aug 4, 2026

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Published on: May 4, 2016
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FT-NIR模型用于预测无二氧化片涂层中的薄膜质量参数
Filip Gorachinov1, Monika Koviloska2, Katerina Tnokovska2
1Research & Development, Alkaloid AD-Skopje, Blvd. Aleksandar Makedonski 12, 1000, Skopje, North Macedonia; Ss. Cyril and Methodius University in Skopje, Faculty of Pharmacy, Institute of Pharmaceutical Technology, Mother Theresa 47, 1000 Skopje, North Macedonia.
概括
福里埃变换近红外 (FT-NIR) 光谱学有效监测药物片的涂层厚度和颜色进展. 这种非破坏性方法有助于药品制造的质量控制和流程优化.
科学领域:
- 制药科学 制药科学
- 分析化学 分析化学
- 材料科学 材料科学 材料科学
背景情况:
- 药物片的涂层对于药物输送和稳定性至关重要.
- 监测涂层厚度和颜色对于质量控制至关重要.
- 监测涂层的传统方法可能是破坏性的或耗时的.
研究的目的:
- 调查FT-NIR光谱的使用,以监测药品片的涂层.
- 为了将FT-NIR数据与薄膜厚度和颜色变化相关联.
- 建立一种非破坏性的质量控制和过程终点确定方法.
主要方法:
- 福利埃变换近红外 (FT-NIR) 光谱法被采用.
- 使用了包括OPLS模型在内的多变量分析技术.
- 用光学显微镜 (破坏性) 评估薄膜厚度.
- 使用CIELAB a*值 (非破坏性) 评估了颜色进展.
主要成果:
- FT-NIR光谱学成功地与薄膜厚度和涂层进展相关联.
- CIELAB a* 值显示了可预测的涂层水平变化.
- OPLS模型显示预测误差很低,验证了它们的有效性.
- 非破坏性a*值作为涂层进展的可靠指标.
结论:
- FT-NIR光谱是一种可行的工具,用于监测药品片的涂层过程.
- CIELAB a* 值提供了一个强大的,非破坏性的质量控制方法.
- 这种方法可以准确评估产品质量和确定过程终点.

