(111) -和 (001) -NiO薄膜的结构,磁性和光学特性与散装相似
Simranjeet Kaur1, Smriti Bhatia1, Pooja Pooja1
1Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi, IIT Delhi, Hauz Khas, New Delhi, Delhi, 110016, INDIA.
Journal of physics. Condensed matter : an Institute of Physics journal
|December 24, 2024
概括
脉冲激光沉积 (PLD) 成功生长了氧化 (NiO) 薄膜,具有类似散装的特性. 这些光学透明的薄膜表现出强大的室温磁子,对于技术应用至关重要.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 固态物理 固态物理
- 薄膜技术 薄膜技术
背景情况:
- 氧化 (NiO) 是一种重要的p型半导体,在自旋电子和催化中具有潜在的应用.
- 了解NiO薄膜的磁性和光学特性对于设备开发至关重要.
- 脉冲激光沉积 (PLD) 是一种多功能技术,用于生长高质量的薄膜.
研究的目的:
- 使用PLD合成 (111) 和 (001) 导向的NiO薄膜.
- 描述培养的NiO薄膜的磁性,光学和结构性质.
- 评估这些薄膜在技术应用中的潜力,特别是那些需要室温磁铁的技术应用.
主要方法:
- 脉冲激光沉积 (PLD) 用于在蓝宝石和MgO基板上的薄膜生长.
- 测量直流磁感应度以确定尼尔温度.
- 拉曼光谱法用于识别两个马格农散射模式.
- 紫外线光谱和光谱圆测量用于带隙测定.
- 光发光谱学用于研究光学转换.
主要成果:
- 成功培养了以111和 (001) 为导向的NiO薄膜,其 Néel温度高于室温.
- 观测到与散装NiO相似的两马农拉曼散射模式,即使在30纳米厚度.
- 确定了3.6 eV的带隙,与散装NiO.O.相一致.
- 在385和405nm的111-NiO薄膜中确定了辐射过渡,有激子-马格农合的证据.
结论:
- 在PLD中生长的NiO薄膜表现出大量的磁性和光学性质.
- 这些膜具有光学透明度和强大的室温磁铁.
- 这些发现突显了这些NiO薄膜在先进应用中的技术意义.
