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Updated: Jun 3, 2025
13:21
Graphene Coatings for Biomedical Implants
Published on: March 1, 2013
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原子层沉积应用用于生物医学材料的抗菌涂层:手术
Ilmutdin M Abdulagatov1,2, Visampasha Yu Khanaliev2, Razin M Ragimov2
1Department of Physical Chemistry, Dagestan State University, 367000, 43a M. Gadzhieva Str., Makhachkala, Dagestan, Russia.
Biomedical materials (Bristol, England)
|January 9, 2025
概括
新的原子层沉积 (ALD) 技术为手术接创造了持久的抗菌涂层. 二氧化 (TiVO2) 纳米涂料有效防止细菌生长,降低手术部位感染风险.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 生物医学工程 生物医学工程
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 与接相关的手术部位感染 (SSI) 是一个严重的并发症,通常是由抗生素耐药的细菌殖民常规接造成的.
- 由于不稳定性和对环境释放的依赖性,现有的抗菌接涂层的有效性有限.
- 迫切需要耐用,低剂量和有效的抗菌接材料.
研究的目的:
- 开发和评估一种新的原子层沉积 (ALD) 方法,用于在手术上制造持久的抗菌涂层.
- 为了增强聚烯 (PP) 的抗菌特性,使用化 (TiVO2) 纳米薄膜.
- 评估TiVO2纳米涂层的稳定性,非毒性和有效性,以对抗常见的细菌病原体.
主要方法:
- 利用原子层沉积 (ALD) 在PP sutures上应用27.5nm厚的添加TiO2 (TiVO2) 纳米薄膜.
- 使用Al2O3种子层来提高TiVO2涂层的粘附性和稳定性.
- 使用扫描电子显微镜 (SEM) 和能量分散式X射线光谱 (EDS) 进行了涂层接的特征.
- 对大肠杆菌 (大肠杆菌) 和杆菌 (Pr. 使用定量方法和磁盘扩散试验.
主要成果:
- TiVO2纳米涂层在各种条件下 (水,空气,生理环境,不同pH值,高达70°C) 显示出出色的稳定性,并且抵御了杀菌溶剂的降解.
- 定量分析显示,完全抑制了大肠杆菌和Pr. 在48小时和72小时内在涂层 sutures 周围的vulgaris 生长,与未涂层对照不同.
- 用ALD涂层的线约100%抑制了生物膜的形成,并在光盘扩散试验中显示出显著的抑制区域.
- 的度仍然低于毒性极限,TiVO2涂层被证实是无毒的.
结论:
- ALD技术提供了一种强大的方法,用于在手术上创建稳定,持久和有效的抗菌TiVO2纳米涂层.
- 这些增强接显著减少细菌殖民和生物膜的形成,为预防SSI提供了一个有前途的战略.
- 开发的TiVO2纳米涂层接代表了手术材料的重大进步,解决了当前抗菌治疗的局限性.
