概括
聚焦离子束蚀刻使使用InGaAs量子点的更短的Fabry-Perot (FP) 激光器成为可能. 蚀刻面的性能与切割面的性能相似,在高达105°C的脉冲操作中保持性能.
科学领域:
- 光电学是指光电子产品.
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 半导体物理 半导体物理
背景情况:
- 法布里-佩罗 (FP) 激光器是重要的光电子设备.
- 对于先进的应用,FP激光器的小型化是可取的.
- 量子点活性区域提供独特的光学特性.
研究的目的:
- 研究超短腔FP激光器的性能.
- 评估聚焦离子束 (FIB) 蚀刻用于镜子制造的有效性.
- 评估FIB雕刻的方面对激光性能的影响.
主要方法:
- 制造FP激光器,其空腔长度低至50微米.
- 利用聚焦离子束 (FIB) 蚀刻用于镜像形成.
- 采用高密度的InGaAs量子点作为激光活性区域.
- 激光器在脉冲模式下运行,并测试到105°C.
主要成果:
- 激光器在脉冲模式下运行至105°C.
- 与被切割的面体相比,FIB蚀刻的面体显示出相似的发射波长和值电流.
- 估计最大的模式增益至少为240厘米-1.1.
- 没有观察到激发状态激光的证据.
结论:
- FIB蚀刻是一种可行的方法,用于制造短腔FP激光器中的镜子.
- 蚀刻的方面没有显著增加非辐射重组率.
- 用FIB蚀刻的面板提供了与裂面板可比的反射系数.


