对深亚波长集成光电子芯片进行纳米光子检查
Ying Che1,2, Tianyue Zhang1, Xiaowei Liu3
1State Key Laboratory of Information Photonics and Optical Communications & School of Integrated Circuits, Beijing University of Posts and Telecommunications, Beijing 100876, China.
Science advances
|January 24, 2025
概括
光热非线性散射显微镜使集成光电子芯片的直接超分辨率成像成为可能. 这一突破解决了重要的计量学差距,允许在纳米光子学和微电子学中快速设计-制造反.
科学领域:
- 纳米光子学和光电子学
- 先进的计量学高级计量学
- 光学成像技术的成像
背景情况:
- 人工纳米结构对于光场管理在集成光电子和平面光学中至关重要.
- 制造芯片的直接光学检查是一个重要的计量挑战,阻碍了设计-制造反循环.
研究的目的:
- 为展示光热非线性散射显微镜用于集成光电子芯片的高分辨率直接成像.
- 在纳米光子设备的光学检查中克服衍射极限.
主要方法:
- 使用光热非线性散射显微镜.
- 利用深度亚波长纳米结构和漏洞共振的合.
- 利用加热引起的对焦反射强度的可逆非线性调制.
主要成果:
- 实现光学分辨率功率低至80nm (大约λ/7).
- 成功成像了100nm关键尺寸的格合器和金属镜头.
- 展示了使用45nm技术节点的中央处理器 (CPU) 芯片的成像.
结论:
- 光热非线性散射显微镜提供现场,非破坏性和高通量光学检查.
- 这种技术弥合了集成光电子和纳米光子芯片的计量学差距.
- 能够为先进的纳米结构设计和制造提供快速反.
