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Updated: Aug 1, 2026

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Micro-masonry for 3D Additive Micromanufacturing
Published on: August 1, 2014
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用于在曲面上制造微和中等尺度光学结构的环形光刻法
Optics express
|January 29, 2025
概括
这项研究引入了一种用于环形光刻的新型曝光系统,可以在曲的表面上制造微型和中型结构. 这种先进的工具实现了高分辨率和精确控制环尺寸,用于多功能应用.
科学领域:
- 光学和光子学 在光学和光子学.
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 微型和中型结构的制造对于先进的光学和电子设备至关重要.
- 当前的光刻技术在应用于曲表面时,往往面临局限性.
- 环形 lithography 提供了新的图案设计的潜力,但需要专门的设备.
研究的目的:
- 介绍一种用于环形 lithography 的新型曝光系统.
- 首次在曲的表面上制造微型和中型结构.
- 为了证明系统在创建衍射光学元件方面的能力.
主要方法:
- 使用一个轴子变焦系统来生成环.
- 整合了高数值光圈光学设计,以提高分辨率.
- 实现了远程中心成像,在光轴上保持恒定的环直径.
- 集成了一个观察单元和自动对焦系统,用于精确的控制.
主要成果:
- 在平面和曲面 (半径68.8毫米) 基板上成功制造了微型和中型结构.
- 达到约10微米的狭窄曝光环宽度.
- 已证明具有从60μm到460μm的特征周期的结构.
- 不同的环径从400微米到8毫米.
结论:
- 开发的曝光系统有效地使曲表面的环状光刻成为可能.
- 该系统提供高分辨率和对图案特征的精确控制.
- 这一进步为在非平面基板上制造光学元件开辟了新的可能性.
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