Ruizhou Wang1, Yulong Zhang1, Hua Wang2

  • 1State Key Laboratory of Precision Electronic Manufacturing Technology and Equipment, Guangdong University of Technology, Guangzhou 510006, China.

概括

这项研究引入了一种新的系统,用于在外焦平面 (OFP) 干扰下评估微视觉跟踪算法. 它量化了OFP问题如何影响内焦平面 (IFP) 精度,帮助开发更强大的跟踪解决方案.

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