在没有和在现场设计再优化的情况下生产的面光学涂层的替代灵敏度分析

Daniel Poitras1, Penghui Ma2

  • 1Quantum and Nanotechnologies Research Center, National Research Council of Canada, 1200 Montreal Rd., Ottawa, ON, K1A 0R6, Canada. daniel.poitras@nrc-cnrc.gc.ca.

Scientific reports
|February 17, 2025
PubMed
概括

控制光学涂层反射率对于光电子设备至关重要. 使用多项式混沌扩展和现场再优化的新模拟方法显著减少了制造错误,提高了设备性能.