晶圆尺度1T-CrTe2的Si-CMOS兼容合成,具有步态磁转换

Jiwei Liu1,2,3, Cong Wang2, Yuwei Wang3

  • 1State Key Laboratory of Silicon and Advanced Semiconductor Materials, School of Materials Science and Engineering, Zhejiang University, Hangzhou, 310027, P. R. China.

概括

研究人员开发了一种具有成本效益的方法来合成晶圆尺度的2D Telluride (CrTe) 薄膜. 这一突破使得通过克服以前的合成挑战,可以在自旋电子设备中实现潜在的进步.