电耳机学延迟:在耳植入过程中与电极位置的相关性
Raphael R Andonie1,2, Wilhelm Wimmer2,3, Reto A Wildhaber4,5
1ARTORG Center for Biomedical Engineering Research, Bern University Hospital, University of Bern, Bern, Switzerland.
Ear and hearing
|February 26, 2025
概括
耳微声延迟 (CML) 可以在耳植入 (CI) 手术期间跟踪电极位置. 这种方法源自电耳管学 (ECochG),显示了实时监测的潜力,但与残留听力保护无关.
科学领域:
- 奥托声学排放和电生理学
- 神经科学和生物工程是神经科学.
- 手术监测技术 手术监测技术
背景情况:
- 耳植入器 (CI) 手术的目的是保护残留的听力.
- 耳内电耳学 (ECochG) 通过耳微声 (CM) 振幅监测耳健康.
- 准确解释CM信号需要考虑电极插入深度和由此产生的信号延迟.
研究的目的:
- 分析耳微声延迟 (CML) 作为实时跟踪手术期间CI电极位置的客观方法.
- 调查CML与手术前残留听力之间的关联.
主要方法:
- 在插入电极期间,对30名CI患者进行了手术期间ECochG记录.
- 耳微声延迟 (CML) 由不同频率的ECochG测量得出.
- 手术后的CT扫描确定了电极位置,CML与使用线性回归的插入深度相关.
主要成果:
- 在插入期间和之后,CML与线性电极插入深度 (p < 0.001) 有显著的相关性.
- 结果与已知的基底膜延迟一致,尽管个体间存在差异.
- 在CML和手术前残留听力之间没有发现显著的关联.
结论:
- 客观提取的CML有效地编码了CI患者的耳内电极位置.
- 通过实时电极位置跟踪,CML显示了增强手术内ECochG分析的潜力.
- 需要对更大的队列进行进一步的研究,以了解个人间的CML变异.
