激光干扰光刻图模式阵列的全球对齐参考策略
Xiang Gao1, Jingwen Li1,2, Zijian Zhong1
1Shenzhen International Graduate School, Tsinghua University, University Town of Shenzhen, Shenzhen, 518055, Guangdong, China.
Microsystems & nanoengineering
|March 4, 2025
概括
一个新的全球对齐策略克服了使用激光干扰光刻法制造大面积格子的局限性. 这种方法确保了相位,周期和倾斜在大型基板上的精确对齐,用于先进的工程应用.
科学领域:
- 纳米技术和材料科学 材料科学
- 光学工程是指光学工程.
- 计量学 计量学 计量学
背景情况:
- 大面积网格是各种工程领域的必不可少的组件.
- 传统的干扰光刻法方法在大面积制造中面临挑战,原因是光圈尺寸限制.
研究的目的:
- 提出和演示一种用于制造大面积激光干扰光刻 (LIL) 图案阵列的新方法.
- 为了在整个图案区域中实现相位,周期和倾斜角度的精确全球对齐.
主要方法:
- 实施全球对齐参考策略,使用两个参考网格 (一个独立的,一个固定的).
- 通过交替光束和基板运动来调整曝光面积,以实现精确的控制.
- 在大型基板上制造3x3格子阵列.
主要成果:
- 成功制造了一个具有高精度对齐的大面积格子阵列.
- 使用Fizeau干扰仪进行实验验证,显示连续的-1级衍射波面.
- 展示干扰光刻图图案阵列的所有区域的有效和高效对齐.
结论:
- 拟议的全球调整战略有效地克服了大面积格子制造的局限性.
- 这种技术为在大基板上制造周期性结构提供了高精度和效率.
- 该方法可以通过基板旋转来创建各种周期结构.
