利用DFT和机器学习来准确预测合聚合物中的光学间隙
Bin Liu1,2, Yunrui Yan1,2, Mingjie Liu1,2
1Department of Chemistry, University of Florida, Gainesville, FL 32611, USA. mingjieliu@ufl.edu.
Nanoscale
|March 10, 2025
概括
预测合聚合物光学带间隙是具有挑战性的. 这项研究将密度函数理论 (DFT) 与机器学习 (ML) 结合起来,以准确预测这些特性,加速用于光电子的先进材料的设计.
科学领域:
- 材料科学与工程 材料科学与工程
- 计算化学计算化学
- 聚合物科学 聚合物科学
背景情况:
- 结合聚合物 (CPs) 具有可调节的电子特性,对于光电子应用至关重要.
- 在CP中准确预测光带间隙 (E_expgap) 是一个重大挑战.
- 现有的方法很难将理论计算与实验光学带间隙相关联.
研究的目的:
- 开发一种可靠的模型,用于预测合聚合物 (CP) 的实验测量光带间隙 (E_expgap).
- 将密度函数理论 (DFT) 的计算与数据驱动的机器学习 (ML) 方法相结合.
- 加速设计和开发用于光电子应用的高性能CP.
主要方法:
- 利用CP的1096个数据点,使用DFT计算改性寡合体的HOMO-LUMO差距 (E_oligomergap).
- 开发了使用E_oligomergap和单体分子特征来捕获电子属性的ML模型.
- 训练并验证了六个ML模型,XGBoost-2被确定为表现最佳的模型.
主要成果:
- 修改过的寡合体显著改善了DFT计算和实验带间隙之间的相关性 (R2 = 0.51对比0.15单体).
- XGBoost-2模型在预测E_expgap时达到高精度 (R2 = 0.77,MAE = 0.065 eV),在实验误差范围内.
- XGBoost-2在多种CP结构中展示了出色的插值和外推能力.
结论:
- 结合DFT和ML的新策略提供了准确而高效的CP光带间隙预测.
- 这种综合方法促进了先进的合聚合物的加速设计.
- 开发的模型显示了未来光电子设备中高性能CP的重大前景.
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