HfO2TiO2:

Inkook Hwang1, Jiwon Kim1, Joungho Lee2

  • 1Department of Advanced Materials Engineering, Tech University of Korea, Siheung-si 15073, Republic of Korea.

PubMed
概括

远程等离子体原子层沉积增强了基于氧化物的半导体存储器件. 使用远程等离子体制造的氧化和二氧化薄膜与直接等离子体方法相比,具有优越的电荷捕获记忆性能.