屏障层对Al/Sc多层对极端紫外线范围的接口和微结构的影响
Zile Wang1,2, Bo Lai1,2, Zhe Zhang1,2
1MOE Key Laboratory of Advanced Micro-Structured Materials, Institute of Precision Optical Engineering (IPOE), School of Physics Science and Engineering, Tongji University, Shanghai 200092, China.
ACS applied materials & interfaces
|March 28, 2025
概括
将 (Mo) 屏障层添加到/ (Al/Sc) 多层中,可以提高极端紫外光学的接口质量. 层抑制结晶,防止扩散,增强多层性能.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光学是什么?光学是什么?光学是什么?
- 薄膜技术 薄膜技术
背景情况:
- / (Al/Sc) 多层对于极端紫外线 (EUV) 光学应用至关重要.
- 现有的研究缺乏详细的研究,用于在Al/Sc多层中使用屏障层来增强接口.
- 提高接口质量对于EUV光学元件的性能和稳定性至关重要.
研究的目的:
- 研究 (Mo) 屏障层对Al/Sc多层的接口特性和微观结构的影响.
- 了解Mo屏障在多层结构中的不同接口的不同作用.
- 建立Mo屏障层对界面扩散和微观结构的影响模型.
主要方法:
- 制造Al/Sc,Al/Sc/Mo,Al/Mo/Sc,Al/Mo/Sc和Al/Mo/Sc/Mo多层,使用直流磁力电喷射.
- 使用放牧发生率X射线反射率 (GIXR) 和传输电子显微镜 (TEM) 进行表征.
- 通过能量分散式X射线光谱 (EDX),X射线衍射 (XRD) 和X射线吸收光谱 (XAS) 分析元素组成和相位结构.
主要成果:
- 大约0.5纳米厚的 (Mo) 屏障层在各种接口上成功地被纳入.
- 在Al-on-Sc接口上的Mo抑制了Al的柱状结晶,从而导致更光滑的接口.
- Mo在Sc-on-Al接口起到了有效的扩散屏障的作用,防止Al扩散到Sc层中.
- 该研究建立了一个模型,详细说明Mo屏障对界面扩散和微观结构的影响.
结论:
- 阻隔层显著提高了Al/Sc多层的接口质量.
- 层的特定位置决定了它们的功能:光滑接口或防止扩散.
- 这些发现为优化Al/Sc多层用于先进的EUV光学应用提供了一条途径.
