原子层沉积为下一代智能和功能性织品铺平了道路
Sijie Qiao1, Zhicheng Shi1, Aixin Tong1
1State Key Laboratory of New Textile Materials and Advanced Processing, Wuhan Textile University, Hubei, Wuhan 430000, China.
Advances in colloid and interface science
|March 30, 2025
概括
原子层沉积 (ALD) 创造了具有增强性质的高级功能性织品,如抗微生物和紫外线耐药性. 这项技术使多功能织物能够在不影响舒适性的情况下使用,为下一代材料铺平了道路.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 织工程 织工程 织工程
- 纳米技术 纳米技术
背景情况:
- 功能性织品提供了超越舒适性和美学性的增强性质.
- 现有的功能性织品往往会为了性能而牺牲舒适性.
- 原子层沉积 (ALD) 为织品功能化提供了一种新的方法.
研究的目的:
- 审查ALD在创建高级功能织品中的应用.
- 讨论ALD用于织涂料的机制和优势.
- 探索ALD在大型多功能织物生产中的潜力和挑战.
主要方法:
- 对ALD反应机制和在纤维和织品上的沉积技术的审查.
- 对用于织品的ALD衍生无机纳米膜的研究进展的分析.
- 讨论影响ALD过程和常用技术的因素.
主要成果:
- ALD可以在织品上进行精确的,合规的纳米薄膜涂层.
- 涂有ALD涂层的织品具有多种功能,包括抗微生物,抗紫外线和隔热等.
- ALD提供了一条通往多功能织品的途径,同时保持舒适度.
结论:
- ALD是开发下一代先进功能织品的一个有前途的技术.
- 需要进一步的研究来应对大型ALD生产多功能织物的挑战.
- 阿尔德技术可以显著推进时尚,可持续性和技术织品领域.
