概括
我们开发了一种用于薄膜尼酸盐 (TFLN) 光子集成电路的新双边合器. 这种设计可以提高光纤合效率和对齐容忍度,同时简化制造.
科学领域:
- 光子学 是一个光子学.
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 集成光学 集成光学 集成光学
背景情况:
- 薄膜酸 (TFLN) 是光子集成电路 (PIC) 的关键平台,因为它具有高的非线性系数和电光响应.
- 对TFLN芯片进行高效的光纤合至关重要,但由于现有边缘合器的制造复杂性和对齐精度要求,具有挑战性.
研究的目的:
- 为TFLN设备提出和展示一种高效率,易于制造和耐对齐的双边缘合器.
- 在性能和制造方面克服当前边缘合器设计的局限性.
主要方法:
- 设计了一种新型的双边缘合器,包括面合器,梁组合器和亚亚巴特缩区域.
- 使用简化的单重叠工艺进行制造.
- 合效率的表征,在C频段的光谱性能和对齐容忍度.
主要成果:
- 在1550 nm时,达到比每面1.52 dB更好的测量合效率.
- 在C频段中显示平均合效率在-1.85dB和-1.6dB之间.
- 获得了大约4微米的模式场直径和±1微米的大调整公差.
结论:
- 拟议的两端合器为TFLN设备中的光学接口包装提供了一种实用且高性能的解决方案.
- 该设计简化了制造,只需要一个重叠步骤,使其适合大规模生产.
- 这一进步促进了基于TFLN的PIC与光纤的集成,从而实现了更广泛的应用.


