III-MOCVD/MOVPE

P K Saxena1, P Srivastava2, Anshika Srivastava2

  • 1Tech Next Lab Pvt Ltd, Lucknow, UP, India. praveen@technextlab.com.

Scientific reports
|April 12, 2025
PubMed
概括

在表皮氧化过程中优化氨 (NH3) 预流持续时间,可显著降低化 (AlN) 和化 (GaN) 缓冲层中的缺陷密度. 较长的预流时间最大限度地降低了线程脱位密度 (TDD),改善了III-化物生长的晶体质量.