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Katelyn A Kirchner1,2, Sohei Ogasawara1,3, Melbert Jeem4
1Research Institute for Electronic Science, Hokkaido University, N20W10, Sapporo 001-0020, Japan.
研究人员通过控制基板表面的原子排序,开发出具有显著降低导热率 (κ) 的薄玻璃 (SiO2) 薄膜. 这一突破使电子包装和电力电子应用的先进绝缘材料成为可能.
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