释放缺陷的潜力,为多维防伪和X射线成像应用设计了持久Pr3+激活
Annu Balhara1,2, Santosh K Gupta1,2, Partha Sarathi Ghosh2,3
1Radiochemistry Division, Bhabha Atomic Research Centre, Trombay, Mumbai, 400085, India.
Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)
|April 24, 2025
概括
这项研究开发了一种具有持久发光的新型,用于先进的防伪和X射线成像. 该材料提供多颜色的排放和可控制的陷深度,增强安全和成像能力.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 固态化学 固态化学
- 发光的光度是非常的低.
背景情况:
- 无机中的持久发光 (PersL) 对于防伪和光学存储至关重要.
- 优化PersL属性,多色调和缺陷工程是关键的研究领域.
- Ca3Ga2Ge3O12:Pr3+ (CGGO:Pr) 具有前景,但需要为特定应用进一步开发.
研究的目的:
- 开发一种新的Ca3Ga2Ge3O12:Pr3+ (CGGO:Pr) ,具有增强的持续发光和多色发射特性.
- 为了设计陷深度以优化PersL性能,使用异构共.
- 评估开发的在防伪和X射线成像应用中的潜力.
主要方法:
- CGGO:Pr与Er3+和Yb3+离子的有价配合.
- 通过创建浅层电子陷来调整陷深度.
- 使用混合密度函数计算,热发光和正子灭绝寿命光谱学的表征.
- 用于X射线成像的复合PMMA-CGGO:Pr光薄膜的制造.
主要成果:
- 合成了一种新型的Pr3+/Er3+/Yb3+:CGGO,表现出持久的PersL和多颜色排放.
- 通过引入新的浅电子陷,Codoping将陷深度优化到大约0.73 eV.
- 光显示出高效的可见辐射和向上转换的发光.
- 复合膜实现了高X射线成像分辨率4 lp/mm,超过商业屏幕.
结论:
- 开发的Pr3+/Er3+/Yb3+:CGGO光器提供了一个单一的多色发光系统,具有增强的PersL和可控制的陷深度.
- 这种材料适用于强大且多模式的防伪应用.
- 在X射线成像中的高分辨率证明了其对先进成像技术的潜力.
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