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Yuxiang Yin1, Bingyan Liu1, Yanru Chen2
1School of Physical Science and Technology, ShanghaiTech University, 393 Middle Huaxia Road, Shanghai 201210, China.
法拉第光刻法 (FL) 为纳米级3D打印和纳米制造提供了一种新的解决方案,以高精度实现35nm特征. 这种简单的,多功能技术克服了半导体纳米制造传统光刻法的局限性.
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