一种铜蚀刻,具有宽的工艺窗口,长时间的洗寿命和高稳定性,用于薄膜晶体管液晶显示应用
Bing Zhang1, Yafen Yang1,2, David Wei Zhang1,2
1School of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 200433, China.
Materials (Basel, Switzerland)
|May 7, 2025
概括
一种新的铜蚀刻剂可以为先进的薄膜晶体管液晶显示器 (TFT-LCD) 提供稳定,高精度的蚀刻. 这种优化的配方延长了浴寿命,并改善了下一代显示器制造的工艺控制.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 化学工程是化学工程的重要组成部分.
- 半导体制造业 半导体制造业
背景情况:
- 在显示器中用于多金属/合金堆的传统蚀刻器会导致非均蚀刻和削减等问题.
- 现有的工艺难以满足高一代显示器生产的严格标准.
研究的目的:
- 为薄膜晶体管液晶显示器 (TFT-LCD) 应用开发具有延长浴寿命的稳定铜 (Cu-Mo) 蚀刻剂.
- 优化蚀刻组合,以提高蚀刻性能和工艺窗口.
主要方法:
- 系统地调查蚀刻时间,铜离子 (Cu2+) 负载和储存时间对蚀刻性能的影响.
- 评估蚀刻端点检测,临界维度 (CD) 偏差,缩角度和材料兼容性.
- 对Cu-Mo蚀刻剂配方的组合优化.
主要成果:
- 在检测到的终点之外的10%至90%的超刻度保持了多层结构的临界维度 (CD) 偏差和缩角度.
- 优化的蚀刻表现出比记录过程 (POR) 20%更宽的工艺窗口和20%更长的浴寿命.
- 该配方的保质期超过15天,降解程度最小,与工业设备材料兼容.
结论:
- 开发的Cu-Mo蚀刻剂为先进的TFT-LCD制造中高精度蚀刻提供了稳定可靠的解决方案.
- 这种优化的蚀刻解决了多金属/合金蚀刻的关键挑战,为下一代显示器提供了可扩展的方法.


