用UHPLC-MS/MS技术量化表观遗传DNA和RNA修饰:特殊收藏的新概念和新改进

Rui Zhang1,2, Hailong Liu1,2,3, Biao Bai1,2

  • 1The State Key Laboratory of Environmental Chemistry and Ecotoxicology, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing, China.

概括

本综述详细介绍了使用超高性能液体染色学-并联质谱法 (UHPLC-MS/MS) 分析DNA和RNA修饰的方法. 它突出了疾病研究和追踪表观遗传标记物的应用,如6-甲基氨酸 (6mA).

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