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Dongwan Kim1, Phuc Dinh Nguyen1,2, Jiyeon Jeon1
1Semiconductor and Display Metrology Group, Korea Research Institute of Standards and Science, Daejeon, 34113, Republic of Korea. mainue@kriss.re.kr.
在LED中优化III-V半导体覆盖结构可以抑制载体溢出并增强光辐射. 在InAsSb/InAsPSb多个量子井 (MQWs) 中,更高的兴奋剂和更厚的层提高了热性能和光输出.
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