AlTiO/4H-SiC MOS

Yu-Xuan Zeng1,2, Wei Huang1,2, Hong-Ping Ma1,2,3

  • 1Institute of Wide Bandgap Semiconductors and Future Lighting, Academy for Engineering & Technology, Fudan University, Shanghai 200433, China.

概括

这项研究开发了一种复合氧化 (AlTiO) 门介电器,用于使用原子层沉积 (ALD) 的碳化 (SiC) 电源设备. 退火改善了AlTiO介电器的性能.