概括
这项研究引入了一种使用双频Moiré边框和查找表算法的新型 lithography 对齐方法. 它显著扩大了传感范围,并保持了下一代半导体制造的高精度.
科学领域:
- 半导体制造业 半导体制造业
- 光学计量学是指光学计量学.
- 纳米制造的纳米制造
背景情况:
- 莫伊尔边缘光刻画对齐提供了高精度,但由于边缘别名而受到有限的传感范围的影响.
- 阶段提取过程中的光谱泄漏进一步降低了精度,阻碍了其在先进制造中的使用.
研究的目的:
- 为了克服传统Moiré边缘对齐技术的局限性.
- 开发一种新的对齐方法,以扩大传感范围和提高准确性,用于下一代光刻.
主要方法:
- 提出了一种复合对齐标记,使用差分网格产生双频Moiré边缘.
- 开发了一种自动查找差异表算法,用于分析边缘偏移,并实现大范围传感.
- 实现了2D汉宁自卷窗,以抑制光谱泄漏.
主要成果:
- 从2.6μm到120μm实现了有效传感范围的显著增加.
- 保持实时错位测量 (0.15秒) 准确度低于2nm.
- 通过模拟和实验验证拟议方案的有效性.
结论:
- 新的双频Moiré边缘技术有效地解决了传统方法的局限性.
- 这种方法使得高精度,实时,大范围的错位测量能够用于先进的光刻.
- 该策略可适应各种相对位置测量应用.
