基于合波导中的磁光扰动的集成TE光学隔离器
Kimhong Chao1, Vy Yam2, Laurent Vivien2
1Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies, CNRS, Université Paris-Saclay, 91120, Palaiseau, France. kimhong.chao@universite-paris-saclay.fr.
Scientific reports
|July 2, 2025
概括
一个新的磁光隔离器设计使用联接波导中的模态击来防止光子集成电路中的激光不稳定. 这一突破为微型光学系统提供了宽带,高隔离.
科学领域:
- 光子学和光学工程 光子学和光学工程
- 材料科学 材料科学 材料科学
背景情况:
- 光子集成电路 (PIC) 面临着内部反射破坏激光器稳定的挑战.
- 现有的磁光隔离器具有局限性,特别是在TE模式下.
研究的目的:
- 为高性能TE光学隔离器引入一种新的操作原理.
- 解决复杂的PIC中需要改进光学隔离的需求.
主要方法:
- 在横向磁光克尔效应 (TMOKE) 合波导系统中使用模态击.
- 将 evanescently 合的波导与磁光效应相结合.
- 使用磁光石材模拟设备性能.
主要成果:
- 拟议的隔离器运行基于非互惠的传播,而不依赖共振或干扰仪.
- 模拟设备长度为500微米,隔离带宽为35nm的20 dB.
- 实现了宽带和高隔离性能.
结论:
- 新的基于TMOKE的合波导隔离器显示出对高性能TE光学隔离具有重大前景.
- 这项技术可使复杂的光子电路用于光学和数据通信的小型化.
- 潜在的应用包括光学传感和先进的数据传输系统.
