拓绝缘体Bi2Se3的边缘主导的Epitaxy具有超宽带响应

Tiange Zhao1, Shijie Duan1,2, Wenzhen Dou3

  • 1State Key Laboratory of Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200083, China.

ACS nano
|July 10, 2025
PubMed
概括

研究人员开发了一种新的流量受限表法,用于大规模合成高质量的树脂化物 (Bi2Se3) 拓绝缘体. 这一突破使先进的电子和光子设备能够实现统一,精确控制的晶体生长.

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