驱动的等离子调制用于调整钻石中的空位形成
Rahul Raj1, N Chandrasekaran2, K G Pradeep2
1Department of Physics, Quantum Centre of Excellence for Diamond and Emergent Materials (QuCenDiEM), India Centre for Lab-Grown Diamond (InCent-LGD), Nano Functional Materials Technology Center and Materials Science Research Center, Indian Institute of Technology Madras, Chennai, Tamil Nadu 600036, India.
Nanotechnology
|July 11, 2025
概括
我们使用微波等离子体化学蒸气沉积来证明钻石中空 (SiV) 中心的受控生长. 这种可扩展的方法可以为先进的量子光子应用程序精确调整SiV层.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 量子光学是一种量子光学.
- 纳米技术 纳米技术
背景情况:
- 钻石中的空位 (SiV) 中心是关键的量子发射器.
- 它们与光子设备的整合对于量子技术至关重要.
研究的目的:
- 为了证明纳米晶体钻石中delta-doped SiV层的受控生长.
- 为了实现统一的SiV分布和精确控制层厚度和兴奋剂度.
主要方法:
- 一步微波等离子体化学蒸气沉积 (MPCVD).
- 在生长过程中操纵气流.
- 光学发射光谱 (OES) 和原子探针断层扫描 (APT).
主要成果:
- 在纳米晶体钻石薄膜中实现了均的三角形合SiV层.
- 证明了对SiV层厚度和多剂度的精确控制,最高可达3.6 × 10^21 cm^-3.
- 使用APT确认均的分布,独立于微观结构的变化.
结论:
- 开发的MPCVD工艺提供了一个可扩展和精确的方法,用于在钻石中创建高质量的SiV层.
- 这一进步有助于将SiV中心集成到量子技术的纳米光子腔中.


