使用过度曝光图像进行变形测量的一种适应性亮度全球数字图像相关性方法
Chunyuan Gong1,2,3, Boxing Qian2, Qianhai Lu2
1State Key Laboratory for Manufacturing Systems Engineering, School of Mechanical Engineering, Xi'an Jiao Tong University, Xi'an 710049, China.
Sensors (Basel, Switzerland)
|July 12, 2025
概括
本研究引入了自适应亮度全球数字图像相关性方法,以精确测量接中常见的过度曝光图像的变形. 该技术提高了图像质量,用于准确的形变形跟踪和过程优化.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光学工程是指光学工程.
- 机械工程 机械工程
背景情况:
- 由接或金属反射引起的过度曝光图像会阻碍精确的变形测量.
- 现有的方法与接过程的高反射率和动态性质作斗争.
- 追踪表面变形对于理解和优化制造过程至关重要.
研究的目的:
- 用过度曝光图像开发一种可靠的变形测量方法.
- 在具有挑战性的工业环境中提高数字图像相关性的准确性和可靠性.
- 为了实现接过程中的动态变形测量,以优化工艺.
主要方法:
- 提出了一个自适应亮度全球数字图像相关性 (AB-GDIC) 方法.
- 图像过度曝光是使用改进的暗频道前置方法来调整亮度来管理的.
- 已集成有限元分区,用于增强变形分析.
主要成果:
- 改进的暗通道方法有效地调整图像亮度,而不会扭曲分布.
- 在修改的图像分区中观察到平均强度梯度的显著增加.
- 该方法成功地从过度曝光的图像中实现了对接变形的动态测量.
结论:
- 该AB-GDIC方法克服了从过度曝光的接图像测量变形的局限性.
- 可实现精确的动态变形跟踪,包括不稳定和角度变形.
- 这些发现支持通过详细的变形分析优化接工艺.
