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Shaheen Hasan1, Gopal S Kenath1, Mrigaraj Goswami1
1Department of Materials Science and Engineering, Rensselaer Polytechnic Institute, Troy, New York 12180, United States.
研究人员使用干扰光刻法实现了光色凝的超高分辨率体积图案. 这种技术使得具有纳米尺度特征的厚聚合物薄膜能够精确地进行3D微型制造.
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