在上制造化薄膜,使用阴极弧等离子体蒸发,用于生物医学应用
Trung Van Trinh1, Hung Thai Le1, Bang Le Thi1
1School of Materials Science and Engineering, Hanoi University of Science and Technology, No.1 Dai Co Viet, Hanoi, Vietnam.
European journal of dentistry
|July 23, 2025
概括
化 (TiN) 涂层增强商业纯 (Cp-Ti) 植入物. 较低的基板温度,特别是25°C,为生物医学应用提供了优越的TiN涂层粘附性和良好的生物相容性.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 生物医学工程 生物医学工程
- 表面工程是什么?表面工程是什么?
背景情况:
- 商业纯 (Cp-Ti) 是一种常见的生物材料,但缺乏足够的硬度和耐磨性,用于承重应用.
- 化 (TiN) 涂层提供更好的耐磨性和生物相容性,使其适合增强基于的植入物.
研究的目的:
- 在Cp-Ti上制造TiN涂层,使用阴极弧等离子体蒸发.
- 为了研究基板温度对TiN薄膜生物医学应用的性能的影响.
主要方法:
- 在不同的温度 (25, 100, 175, 250°C) 下,TiN薄膜沉积在Cp-Ti基板上.
- 描述包括表面形态,粗度,相组成,硬度,附着性和体外细胞研究.
- 统计分析使用ANOVA和Tukey的多重比较试验 (p <0.05).
主要成果:
- 在所有基质温度中,TiN相位形成一致.
- 表面硬度显示出最小的变化 (193-199 HV),在100°C和175°C时略有增加.
- 表面粗度随着基板温度的增加而增加,而在25°C时可以达到最佳的涂层粘附度 (176 HV).
- 实验室细胞研究表明,与未涂层的Cp-Ti相比,TiN涂层表面上的婴儿子脏细胞的增长和增殖增强.
结论:
- 阴极弧等离子蒸发成功地在25至250°C的温度下在Cp-Ti上产生了TiN涂层.
- 较低的基板温度 (25°C) 导致了优越的TiN涂层附着性.
- TiN涂层表现出良好的生物相容性,这是体外细胞研究所证明的,这表明它们在生物医学应用中的潜力.
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