一种新的高精度工件自我定位方法,用于提高光学元件在磁铁修饰加工中的收比率
Yiang Zhang1,2,3, Pengxiang Wang1,2,3, Chaoliang Guan1,2,3
1College of Intelligence Science and Technology, National University of Defense Technology, Changsha 410073, China.
Micromachines
|July 30, 2025
概括
这项研究介绍了一种新的混合自定位方法,用于磁铁修饰 (MRF),以增强光学元件处理. 这种新方法显著改善了收比率,并减少了平面和复杂无球面的对齐时间.
科学领域:
- 光学工程是指光学工程.
- 制造业 制造技术 制造技术
- 精确计量学 精确计量学
背景情况:
- 在高精度光学元件制造中,磁铁修饰 (MRF) 是至关重要的.
- 系统错误限制了单通MRF的融合,而代处理可能会降低表面纹理.
- 复杂表面的手动对齐是低效的,缺乏可重复性.
研究的目的:
- 为了解决MRF融合和调整效率的局限性.
- 分析六度自由度定位错误对MRF趋同的影响.
- 开发一种混合自定位方法,以提高准确性和速度.
主要方法:
- 对六度自由度定位错误的系统分析和错误传输模型的开发.
- 建议一种混合自定位方法,将机器视觉和探测模块集成在一起.
- 采用NSGA-II的复合数据采集方法和逐步全球优化模型的实施.
主要成果:
- 已建立的工件定位错误容忍值为>=80%的相对收比率.
- 实验验证显示,平面工件的融合比率提高了41.9%,对准时间减少了66.7%.
- 对于曲的工件,实现了25.7%的融合比率改善和80%的调整时间缩短.
结论:
- 拟议的混合自我定位方法显著提高了MRF的融合和效率.
- 这种方法为光学元件的高精度和高效处理提供了强大的解决方案.
- 这些发现支持智能光学制造工艺的进步.
