,使Taguchi

Hyun-Kyu Hwang1, Seong-Jong Kim2

  • 1Mokpo National Maritime University, 91, Haeyangdaehak-ro, Mokpo-si, 58628, Jeollanam-do, Republic of Korea.

Scientific reports
|August 5, 2025
PubMed
概括

这项研究优化了使用人工神经网络 (ANN) 和塔古奇设计的电抛光. 在特定的环保电解质条件下,集成框架实现了4.162nm的最低表面粗度.