Metal-Semiconductor Junctions
Schottky Barrier Diode
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Sihan Chen1, Yue Zhang2, William P King1,2,3,4
1Holonyak Micro and Nanotechnology Laboratory, The Grainger College of Engineering, University of Illinois Urbana-Champaign, Urbana, Illinois 61801, United States.
这项研究引入了一种用于使用烯化 (WSe2) 染二维半导体场效应晶体管 (FET) 的新方法. 这种技术可以在单层WSe2p-FET中实现低电阻接触和高性能,而不会损坏材料.
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