一个简单的,超稳定的,经济高效的氧气清理系统,用于长期DNA-PAINT成像
Rebecca T Perelman1,2, George M Church1,3,4, Johannes Stein1,3
1Wyss Institute for Biologically Inspired Engineering, Harvard University, Boston, MA, USA.
bioRxiv : the preprint server for biology
|August 12, 2025
概括
我们开发了一种新的无酶缓冲剂,使用硫酸和Trolox来防止DNA-PAINT超分辨率显微镜的损伤. 这种稳定,具有成本效益的解决方案通过保护DNA结构来增强长期成像.
科学领域:
- 超分辨率显微镜的使用方法
- 分子成像学分子成像学
- 生物技术是生物技术.
背景情况:
- DNA-PAINT 通过短暂的DNA结合实现了纳米尺度成像.
- 光漂白抗性很高,但活性氧物种 (ROS) 限制了长期成像.
- 目前的氧气清理系统 (OSS) 退化,降低了效率和稳定性.
研究的目的:
- 为扩展DNA-PAINT成像开发一种稳定,无酶的氧气清理缓冲器.
- 为了克服当前酶性OSS的局限性.
- 为了提高DNA-PAINT的稳定性,成本效益和性能.
主要方法:
- 使用硫酸 (Na2SO3) 和Trolox (SST) 制备一种无酶缓冲剂.
- 在长时间的成像期间评估对接链的完整性和定位采样.
- 将SST性能与现有的OSS进行比较.
主要成果:
- SST缓冲器有效地保持了对接链的完整性超过24小时.
- 与酶性OSS相比,SST在缓冲器稳定性方面显示出十倍的改善.
- SST可以降低90%以上的成本,并且很容易准备.
结论:
- 无酶的SST缓冲器为扩展DNA-PAINT成像提供了一个强大的,具有成本效益和高性能的解决方案.
- SST减轻了ROS损伤,增强了本地化采样和缓冲器稳定性.
- 这种新的OSS推进了DNA-PAINT对于长期纳米尺度研究的实用性.
