您也可能阅读
通过共同作者、期刊和引用图与本文相关的文章。
本研究引入了一种用于高数字孔径极紫外线光刻系统 (高NA EUVL) 的新型源优化方法. 该技术增强了成像稳定性,并通过最小化剂量变化效应来延长过程窗口.
科学领域:
背景情况:
研究的目的:
主要方法:
主要成果:
结论:
10:25Single-Digit Nanometer Electron-Beam Lithography with an Aberration-Corrected Scanning Transmission Electron Microscope
Published on: September 14, 2018
10:06Microfluidic Fabrication Techniques for High-Pressure Testing of Microscale Supercritical CO2 Foam Transport in Fractured Unconventional Reservoirs
Published on: July 2, 2020