一个牧场事件照明系统的设计,用于无形极端紫外线光刻学

科学领域:

• 半导体制造业 半导体制造业
• 光学工程是指光学工程.
• 纳米技术纳米技术

背景情况:

• 高数字孔径 (NA) 异形极紫外线光刻 (EUVL) 对先进技术节点至关重要.
• 在EUVL中,传统的四镜照明系统在能源效率方面存在局限性.

研究的目的:

• 提出一个放牧事件照明系统设计,以提高能源效率和EUVL的统一性.
• 开发一种多参数双面镜分配方法,以实现灵活的照明模式和减少射线阻塞.

主要方法:

• 采用了一种放牧事件中继系统结构.
• 建立了双面镜的多参数自动对齐分配模型.
• 库恩-蒙克雷斯算法被用来优化模型参数和最小化成本函数.

主要成果:

• 一个EUV照明系统被设计用于NA 0.55形态投射镜.
• 在不同模式中实现了99%的面罩平面照明均性.
• 实现了23.6%的照明系统能效,比传统系统提高了28.2%.

结论:

• 拟议的放牧事件照明系统有效地提高了无形EUVL的能源效率和统一性.
• 多参数镜子分配方法使可适应的照明模式和最佳镜子配置成为可能.
• 这种设计是下一代半导体光刻技术的重大进步.